QMC CSC-300설비는 Back-end 공정 완료 전까지 진행 중 발생되는 파티클과 진행중 발생하는 Damage로부터 CIS Die표면을 보호하기 위하여 공정 Wafer 표면에 보호 용액을 도포(Coating)하는 장비입니다.
Item | CSC-300 |
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Wafer Size | 8 ~ 12” |
Wafer Supply | Load Port (FOUP) |
Transfer | Travel type Robot (Dual Arm) |
Wafer Align Accuracy | X, Y ≤ ±0.5mm |
Configuration | Load Port, ATM Robot, Pre-Cleaning, Coating, Baking, Cooling, Nozzle |
System Dimension(W x D x H) | 2,220 mm x 3,060 mm x 2,020 mm |
Coating Unit | A/C Servo Motor Drive Chuck Rotate Speed: MAX. 3000 RPM |
Uniformity | Coating Thickness ≤ ±15% @ 1~3um |
Bake Zone | Max Temp. 200 °C Temp. Uniformity ≤ ± 3℃ |
Cooling Zone | 23℃ ± 3℃ |
Clean Room Class | 10 Class |